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透反射光谱测量系统

透反射光谱测量系统采用电控独立双轴设计,配备高精度步进电机,控制发射端和接收端的角度测量,角分辨率达0.001°,重复精度达0.05°。光谱范围覆盖900-2500nm,通过软件控制发射端和接收端的角度,实现快速的光谱测量,可用于透射/反射/散射/荧光/辐射等多种全角度模式的光谱测量。

所属品牌: 维尔克斯光电

负责人:赖工
联系电话:13691896712   电子邮箱:jmlai@welloptics.cn

产品介绍

近红外全角度透反射测量系统900-2500nm,应用于材料测量领域


样品材料中的很多成份,当光束以不同的角度入射时,得到的透射率和反射率会因入射角度的变化而变化。通过测量不同角度入射,可获取材料在正入射时所得不到的信息,确定材料的最敏感角度,可以为进一步的研究或设计测量仪器提供依据。

我们提供可见-近红外全角度透反射测量系统搭配光谱仪和其他测量附件,可以实现光源的不同角度入射和接收,适用于mm量级样品的透射光谱测量及反射光谱测量。透反射光谱测量系统采用电控独立双轴设计,配备高精度步进电机,控制发射端和接收端的角度测量,角分辨率达0.001°,重复精度达0.05°。光谱范围覆盖900-2500nm,通过软件控制发射端和接收端的角度,实现快速的光谱测量,可用于透射/反射/散射/荧光/辐射等多种全角度模式的光谱测量。


主要特点:

-全角度测量:反射和透射,可以实现-90°至90°范围测量,散射、荧光和辐射,可以实现0°至180°测量。

-多种角度测量模式:可以进行反射、透射、荧光、散射辐射等多种光谱测量

-精确角度控制:高精度电机,角度精度达0.05°

-多维调节样品台:样品台由高精度三维位移台和三维旋转台组成,可实现样品的6维调节

技术参数:

产品名称

近红外全角度透反射测量系统

产品型号

XPNIR-RTM-A1

光谱范围

900-2500nm

有效像素

512

信噪比

>10000:1@100ms integration

测量时间

小于1秒

检测器

带制冷,可制冷至-20℃

光源光谱范围

350-2500nm

光源功率

100W

光锥半角

入射范围

-90°-90°

出射范围

0-360°

最小步距

0.005°

重复精度

0.05°

测量模式

反射测量、透射测量、散射测量、荧光测量、辐射测量等

样品台

高精度三维位移台加三维旋转台

-快速测量:快速对样品实现多种角度模式的光谱测量

-可选配件多样:根据客户的不同测量应用,可以选择不同的光源、滤光片、偏振片等配件完成不同的测量应用



多种全角度测量模式:

光谱角度测量模式:

反射式角度测量模式:镜面样品的反射夹角0°~180°,实现光谱的全角度测量。

透射式角度测量模式:入射角-90°~90°,接收角和入射角成180°(同一直线),实现透射光谱的全角度测量。

散射和荧光角度测量模式:入射角-90°~90°的任意角度上变化,接收角0°~360°范围内变化,实现散射和荧光光谱的全角度测量。

辐射角度测量模式:接收角0~360°范围内变化。


主要应用:

-纳米光学材料

-材料镀膜

-光子晶体器件

-传感器器件制备

-LED光源

-液晶显示

-角度相关材料分析







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